GB/T 19444-2025 硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法

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标准编号：GB/T 19444-2025

标准名称：硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法

标准类型：推荐性

标准英文：Test method for oxygen precipition characteristics of silicon wafers—Interstitial oxygen reduction

标准状态：即将实施

发布日期：2026-01-01

实施日期：2025-06-30

标准语言：中文

发布部委：

国际分类：冶金

国内标准分类号：H 21

国际标准分类：77.040

技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门：国家标准委

标准类别：方法

代替标准：GB/T 19444-2004

起草单位：麦斯克电子材料股份有限公司隆基绿能科技股份有限公司浙江海纳半导体股份有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司上海合晶硅材料股份有限公司 浙江中晶科技股份有限公司 内蒙古中环晶体材料有限公司 山东有研艾斯半导体材料有限公司 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 浙大宁波理工学院

起草人：方丽霞 陈卫群 寇文辉 王新社 肖世豪 朱晓彤 尚海波 章金兵 姚献朋黄笑容郭红强刘丽娟张海英王江华